专利名称：水性碱可溶性树脂、感光性树脂组合物、光掩模和电子装置的制造方法
专利申请号：０２１５１３８７． ２
公开号：１４２８３５８
申请人：日本株式会社日立制作所
本发明提供一种可以以较少的工序数目制造、高精度且低缺陷的 ＫｒＦ 准分子激光平版印刷法用光掩模。本发明的ＫｒＦ 准分子光平版印刷法用光掩模，是在石英玻璃基板上直接形成可将 ＫｒＦ 受激准分子激光（波长约 ２４８ｎｍ）有效地吸收的抗蚀图案。抗蚀图案是在萘环导入至少结合有一羟基的高遮光性水性碱可溶性树脂或该水性碱可溶性树脂的衍生物作为高分子树脂基质的水性碱可溶性树脂作为主成分的感光性树脂组合物所构成。
信息来源： 广东印刷
