衬底及与该结构的制造相关的工艺

专利名称：衬底及与该结构的制造相关的工艺
专利申请号：O181 1373．7
公开：1437715
申请人：瑞典奥印杜卡特公司
　　涉及用于纳米印制光刻的一种衬底，该衬底至少包括布置在衬底的一个表面上的一个第一涂层和一个第二涂层，所述第一涂层由一种正抗蚀剂组成，而所述第二涂层由一种负抗蚀剂组成。本发明还涉及与在衬底上的纳米印制光刻相关的一种工艺，在第一阶段中将一个纳米尺寸的图案通过模板压印在第二涂层中，然后，在第二阶段中，在第一阶段中暴露出的第一涂层的表面上对其进行一个基本上各向同性的显影法，选择显影方法和所述第一和第二涂层所用的印，使得第一涂层的显影比第二涂层的显影更快，从而在涂层中得到一个底切轮廓。